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光刻机的结构和工作原理：

　　光刻机的光源有：激光，紫外光、深紫外光、极紫外光。现在-技术是极紫外光。

　　下图是以激光为光源的光刻机简易工作原理图：

　　在制造芯片时，首先在晶圆硅晶片表面涂光感胶，再用光线透过掩模版相当于芯片电路图纸的底片照射硅片表面，被光线照射到的光感胶会发生反应。此后用特定溶剂洗去被照射或者未被照射的胶，电路图就印到硅片上。

　　此过程相当于木匠施工用墨斗放样、划线。

　　硅片上有了电路图的图样后，就轮到刻蚀机登场，刻蚀机相当于木匠的锯子、斧头、凿子、刨子。刻蚀机按图施工，在硅片表面雕刻出晶体管和电路。

光呆板业界别称光掩模板、掩膜版，光罩，英文名字mask或photomask，材料：石英玻璃、金属铬和光感应胶，该商品是由石英玻璃或是碳酸钠夹层玻璃做为衬底，在其上边镀上一层层金属铬和光感应胶。在塑料薄膜、塑胶或夹层玻璃化学反应原材料上制做各种各样作用图型并精i明确位，便于用以光致抗蚀剂镀层可选择性曝i光的这种构造，称之为光刻掩模板。原位芯片目前掌握多种刻蚀工艺，并会根据客户的需求，设计刻蚀效果好且-的刻蚀解决方案。