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苏州优版光电有限公司
联系人：马经理
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地址：苏州工业园区星湖街328号崇文路国华大厦B418室
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务！
蚀刻工艺通常称为版
刻蚀etch是按照掩模图形或设计要求对半导体衬底表面或表面覆盖薄膜进行选择性刻蚀的技术，它是半导体制造工艺，微电子ic制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻相联系的图形化pattern处理的一种主要工艺。掩膜mask：全称单片机掩膜，是指程序数据已经做成光刻版，在单片机生产的过程中把程序做进去。刻蚀分为干法刻蚀和湿法腐蚀。原位芯片目前掌握多种刻蚀工艺，并会根据客户的需求，设计刻蚀效果好且-的刻蚀解决方案。
光学掩模板的应用
光掩膜用于芯片制造，主要是ic集成电路芯片，还应用于制作纯平显示器、薄膜磁头以及pc板等。
光掩膜所起的作用类似于底片之于相片，光刻通过光掩膜在芯片上显影。如果图形通过掩膜版在芯片两面多次显影，这种方法就是熟称的-，这个时候的掩膜也可称为光罩。
准纳光电制作掩膜板，光刻铬版，设计，制作，加工，批量化生产 蚀刻工艺 精度1um 承接掩模板，光刻铬板，标定板，光栅板，分划板，异型玻璃加工
光掩膜上游主要包括图形设计、光掩膜设备及材料行业，下游主要包括ic制造、ic封装、平面显示和印制线路板等行业，应用于主流消费电子 手机、平板、可穿戴设备、笔记本电脑、车载电子、网络通信、家用电器、led 照明、物联网、电子等终端产品。
目前全球范围内光刻掩膜版主要以生产商为主。由于下游应用领域厂商自建光刻掩膜版生产线的投入产出比很低，且光刻掩膜版行业具有一定的技术壁垒，所以光刻掩膜版都是由-生产商进行生产。
随着冲版量的不断增加和空气中的co2不断溶入，显影液中的oh-浓度会下降，ph值将越来越低，显影时间应慢慢变长，至后在正常-条件下ps版无法显影，这就是显影液疲劳的现象。下图是以激光为光源的光刻机简易工作原理图：在制造芯片时，首先在晶圆硅晶片表面涂光感胶，再用光线透过掩模版相当于芯片电路图纸的底片照射硅片表面，被光线照射到的光感胶会发生反应。但随着显影液ph值的降低，碱液对氧化层和涂层树脂的腐蚀力下降，版材的网点再现性及耐印力比用新配制的显影液好一些。但必须注意两点，一是冲版量必须控制在显影液容许范围内；
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