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业内又称光掩模版、掩膜版，英文名称 mask 或 photomask，材质：石英玻璃、金属铬和感光胶，该产品是由石英玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备-在感光胶上,被-的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似-后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻，其生产加工工序为：-，显影，去感光胶，后应用于光蚀刻。光掩膜是刻有微电路的版，由表面纯平并带有一层铬的石英板或玻璃板制作而成，蚀刻后的残留铬部分即为设计的微电图。