暂未提交主营业务相关信息
苏州优版光电有限公司
联系人：马经理
电话：0512-81660800
手机：17710798515
主营：
地址：苏州工业园区星湖街328号崇文路国华大厦B418室
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务！
使用铬刻蚀液进行湿法刻蚀，将暴露出的铬层刻蚀掉形成透光区域，而受光刻胶保护的铬层不会被刻蚀，形成不透光区域。这样便在掩膜版上形成透光率不同的平面图形结构。
在有-的情况下，使用湿法或干法方式去除掩膜版上的光刻胶层，并对掩膜版进行清洗。
光罩英文：reticle, mask，在制作ic的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，为将图型-晶圆上，必须透过光罩作用的原理，类似于冲洗照片时，利用底片将影像至相片上。
光刻工艺
是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，利用-和显影在光刻胶层上刻画器件结构，再通过刻蚀工艺将掩膜上的图形转换到衬底上。原位芯片目前掌握电子束光刻，步进式光刻，接触式光刻等多种光刻技术.
光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性-的一种结构。ps版的显影时间主要由ps版的种类、-时间及显影液的浓度、显影温度等条件来确定。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如icintegrated circuit，集成电路、fpdflat panel display，平板显示器、pcbprinted circuit boards，印刷电路板、memsmicro electro mechanical systems，微机电系统等。
光致抗蚀剂也被称为光致抗蚀剂。掩模板上的图案被转移到晶片表面顶层的光致抗蚀剂上，并且在后续工艺中保护下面的材料(蚀刻或离子注入)。光致抗蚀剂由光敏树脂、光引发剂、添加剂、溶剂等组成。其中，光敏树脂是光刻胶的关键成分。
登录后台
