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苏州优版光电有限公司
联系人：马经理
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地址：苏州工业园区星湖街328号崇文路国华大厦B418室
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务！
蚀刻工艺通常称为版
刻蚀etch是按照掩模图形或设计要求对半导体衬底表面或表面覆盖薄膜进行选择性刻蚀的技术，它是半导体制造工艺，微电子ic制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。光掩膜是刻有微电路的版，由表面纯平并带有一层铬的石英板或玻璃板制作而成，蚀刻后的残留铬部分即为设计的微电图。是与光刻相联系的图形化pattern处理的一种主要工艺。刻蚀分为干法刻蚀和湿法腐蚀。原位芯片目前掌握多种刻蚀工艺，并会根据客户的需求，设计刻蚀效果好且-的刻蚀解决方案。
使用无掩模光刻机读取版图文件，对带胶的空白掩膜版进行非接触式--波长405nm，照射掩膜版上所需图形区域，使该区域的光刻胶通常为正胶发生光化学反应
经过显影、定-，-区域的光刻胶溶解脱落，暴露出下面的铬层
业内又称光掩模版、掩膜版，英文名称 mask 或 photomask，材质：石英玻璃、金属铬和感光胶，该产品是由石英玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备-在感光胶上,被-的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似-后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻，其生产加工工序为：-，显影，去感光胶，后应用于光蚀刻。结构特征提取,用相似性变量或图像匹配方法检测和提取图像中与掩模相似的结构特征。
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