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公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，制版厂家，定制版图，苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务！
尺寸涨缩原因分析
胶片在光绘前没有经过预置
由于胶片制造时无法预先控制胶片中的湿度与每个生产车间的湿度一致，因此使用之前应先使其与工作环境达到平衡的状况。建议预置时间为12小时，预置时必须打开胶片的内包装，使其与外界的空气充分接触。
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光罩英文：reticle， mask，在制作ic的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，制版公司，为将图型---晶圆上，必须透过光罩作用的原理，宿迁制版，类似于冲洗照片时，利用底片将影像至相片上。
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光刻英语：photolithography是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用---和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，制版，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆，还可以是其他金属层、介质层，例如玻璃、sos中的蓝宝石。
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