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公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务!
刻蚀或离子注入完成后,将进行光刻的后一步,即将光刻胶去除,以方便进行半导体器件制造的其他步骤。通常,半导体器件制造整个过程中,会进行很多次光刻流程。生产复杂集成电路的工艺过程中可能需要进行多达50步光刻,而生产薄膜所需的光刻次数会少一些。
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光呆板业界别称光掩模板、掩膜版,光罩,英文名字mask或photomask,材料:石英玻璃、金属铬和光感应胶,该商品是由石英玻璃或是碳酸钠夹层玻璃做为衬底,在其上边镀上一层层金属铬和光感应胶。在塑料薄膜、塑胶或夹层玻璃化学反应原材料上制做各种各样作用图型并精i明确位,便于用以光致抗蚀剂镀层可选择性曝i光的这种构造,称之为光刻掩模板。
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溅镀法sputtering:1上平行板:装载溅镀金属的靶材;下平行板:作为溅镀对象的玻璃基板。2将气ar 2 通入反应舱中形成等离子体;离子ar + 在电场中被加速后冲撞靶材;受冲击的靶材原子会沉积在玻璃基板上从而形成薄膜。
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